哈工大激光干涉仪将光刻机供件台的位移分辨率提升15.4倍

达到世界顶级DUV和EUV所需的供件台的位移精度测量水平，这个技术不光解决了国产高端DUV的问题，也解决了高端EUV的问题。
话说，原来28nm的国产DUV应用上这个技术后能做出7nm芯片来。
另外，EUV光源样机也取得成功了，得到了中科院前院长的肯定，当然，这只是EUV光刻机关键技术中的一部分，还需要其他各方面的先进技术配合。比如前面所说的供件台所用的激光干涉仪，也是关键技术的一部分。

实验室与工业量产的区别

短期能解决14nm和12nm就可以了吧。更高级别的制造不匹配的地方还有不少。

从0到1很难，一旦有了1到100就轻松了

经鉴定此大神才是真大神，其他都是在跳大神。

能先把能搞28nm的光刻机量产，就已经解决一半问题了，其他不着急

难怪ASML的老总前几天跳脚了

现在短期是14nm，有了14nm芯片保基本不成问题，长期是7nm，有了7nm，麒麟990、麒麟820都可以复活，可以冲击高端芯片

整个体系的问题，不是某个零件突破技术封锁就可以的。就算光学还有机械能突破，还有差距更大的化工体系在等着突破呢

丑国坐不住了

还要几年能看到完整的光刻机量产

进度怎么样看asml反应就行😁

单位里打算两年内全部换成国产机国产系统

28.nm解决了就不怕制裁，基本盘稳住了，14nm解决的话中端芯片也解决了，其实28nm解决，国产化后，占领低端市场，他们高端没没利润支持研发了

加油
佩服实干的人